EI(electronics-inc) 流量閥

EI(electronics-inc) 流量閥

產品概述

EI Electronics POT-24 MagnaValve是專為超精密流體管理設計的智能控制閥，集成了EI的?HyperMagna™多級磁感驅動系統(tǒng)?與?AI自適應控制模塊?，可在0.01-60 bar超寬壓力范圍內實現(xiàn)液體、氣體及納米級混合介質的高精度流量調節(jié)。該產品針對氫能儲運、生物制藥無菌流程、微電子制造等對潔凈度與可靠性要求嚴苛的場景，以微米級密封技術、全生命周期智能診斷及多協(xié)議工業(yè)互聯(lián)能力，樹立流體控制新。

核心技術特點

1. ?HyperMagna™多級磁感驅動技術?
   采用七層環(huán)形磁路陣列設計，通過軸向磁通強化技術實現(xiàn)驅動力密度提升400%（對比傳統(tǒng)電磁閥），響應時間≤3ms。閥芯采用單晶碳化硅與類金剛石涂層（DLC），耐受氫氟酸、超臨界CO?等介質，工作溫度范圍擴展至?-200℃（液氮環(huán)境）至350℃（高溫蒸汽）?，機械壽命突破1億次循環(huán)。

2. ?AI自適應流體優(yōu)化系統(tǒng)?
   集成多光譜傳感器（流量、壓力、粘度、顆粒計數(shù)），通過邊緣計算芯片每秒執(zhí)行5000次實時數(shù)據(jù)分析，動態(tài)優(yōu)化閥門開度與壓力補償參數(shù)。支持OPC UA over TSN協(xié)議，實現(xiàn)與工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)（IIoT）平臺的微秒級同步，流量控制精度達?±0.05% FS?（滿量程）。

3. ?納米級潔凈密封架構?
   閥體采用電化學拋光鈦合金（ASTM B348 Grade 5），流道表面粗糙度Ra≤0.05μm，滿足ISO 1級潔凈室標準（顆粒釋放量＜1 particle/cm3）。采用雙冗余金屬波紋管密封（漏率＜1×10?12 mbar·L/s），杜絕介質交叉污染風險，適配mRNA疫苗生產、光刻膠輸送等超敏感場景。

應用場景

• ?氫能源系統(tǒng)?：70MPa高壓氫氣加注站流量控制、液氫儲罐蒸發(fā)氣回收動態(tài)平衡。

• ?生物制藥?：細胞治療制劑無菌分裝、一次性生物反應器培養(yǎng)基精準供給。

• ?半導體制造?：極紫外光刻（EUV）設備冷卻液管理、晶圓清洗超純水分配。

• ?科研設施?：聚變堆液態(tài)鋰鉛合金循環(huán)控制、同步輻射光源液態(tài)金屬射流調節(jié)。

性能優(yōu)勢

• ?超高壓兼容?：60 bar連續(xù)工作壓力（峰值120 bar），支持脈沖式高頻操作（1000次/分鐘）。

• ?智能預維護?：數(shù)字孿生系統(tǒng)實時比對3D磁場模型與運行數(shù)據(jù)，提前120天預測密封件老化。

• ?能效?：動態(tài)功耗＜0.8W（@24VDC），待機功耗僅0.1W，較同類產品節(jié)能75%。

• ?多協(xié)議互聯(lián)?：原生支持EtherCAT、PROFINET IRT及MQTT-SN協(xié)議，無縫接入工業(yè)4.0架構。

技術參數(shù)

安裝與維護

需采用無塵室安裝工藝，配套EI ZeroGravity™懸浮定位夾具確保安裝應力＜0.5N·m。維護時通過藍牙5.2讀取設備健康數(shù)據(jù)，支持模塊化更換核心組件（MTTR＜8分鐘）。每3年執(zhí)行一次原位激光校準，EI全*服務網(wǎng)絡提供48小時快速響應支持。

認證與質保

通過ISO 9001:2015、SIL 3（IEC 61508）、CE/ATEX（Zone 0）認證，質保期升級至7年（含AI核心與磁驅模塊）。所有生產數(shù)據(jù)實時上鏈，用戶可通過EI QuantumTrace™區(qū)塊鏈平臺追溯材料批次、測試報告及維修記錄。